На главную

Статья по теме: Электронного излучения

Предметная область: полимеры, синтетические волокна, каучук, резина

Скачать полный текст

С помощью источника электронного излучения (электронной пушки, ускорителя) на изделиях различной конфигурации получают очень тонкие покрытия (до 1 мкм) пз различных мономеров, в частности органосн-локсанов. Покрытия образуются в заполненной парами мономера вакуум-камере [разрежение 133 —1.3,3 мп./м'1 (10~3—10~4 мм ргп. ст.), энергия потока электронов 1 — '2 кэв, плотность тока не более 2 ма/см-].[4, С.11]

С помощью источника электронного излучения (электронной пушки, ускорителя) на изделиях различной конфигурации получают очень тонкие покрытия (до 1 мкм) из различных мономеров, в частности органосп-локсанов. Покрытия образуются в заполненной парами мономера вакуум-камере [разрежение 133—13,3 мн/м* (10~3—10~4 мм рт. ст.), энергия потока электронов 1—2 кэв, плотность тока не более 2 ма/см?].[6, С.9]

По геометрии дифракция электронного излучения аналогична дифракции рентгеновских лучей, описанной в разд. 28.3; при расчетах можно пользоваться уравнением Брэгга [уравнение (28.5)] и моделью обратной решетки.[2, С.135]

Сушка с помощью УФ-излучения и электронного излучения имеет ограниченное применение для материалов на основе р-ров ненасыщенных полиэфиров и др. олигомеров в реак-ционноспособных растворителях (мономерах). С помощью УФ-излучения можно отверждать только проницаемые для него материалы, напр, лаки, а также шпатлевки, содержащие соответствующие наполнители (микрослюду, бланфикс и др.). В состав материалов должен быть введен фотосенсибилизатор. Источниками излучения служат след, лампы: суперактиничные, люминесцентные, синего света, ртутные высокого и низкого давления. Продолжительность отверждения 1 —12 мин вместо 16—24 ч, необходимых в случае использования химич. инициатора и ускорителя сополи-меризацни.[6, С.10]

При действии ядерных излучений и электронного излучения большой энергии на полиакриловую кислоту и ее эфиры образуются поперечные связи [87, 999, 1000]. Скорость сольволиза сополимеров акриловой кислоты с n-нитрофенилметакрилатом зависит от состава сополимера до содержания последнего 9 мол. % [1001].[5, С.381]

Сушка с помощью У Ф - из л у ч еи и я и электронного излучения имеет ограниченное применение для материалов на основе р-ров ненасыщенных полиэфиров и др. олигомеров в реак-ционноспособных растворителях (мономерах). С помощью УФ-нзлучения можно отверждать только проницаемые для него материалы, напр, лакл, а также шпатлевки, содержащие соответствующие наполнители (микрослюду, бланфикс и др.). В состав материалов должен быть введен фотосенсибилизатор. Источниками излучения служат след, лампы: супсрактиничные, люминесцентные, синего света, ртутные высокого и низкого давления. Продолжительность отверждения 1 —12 мин вместо 16 — 24 ч, необходимых в случае использования хпмич. инициатора и ускорителя сополп-меризащш.[4, С.12]

В зависимости от свойств я-донора, характеристик электронного излучения и режимов последующих обработок получают негативный (полимеризацией я-донора) или позитивный (сублимацией не-полимеризующегося я-донора или его растворением слабополярным растворителем) микрорельеф. Рельеф имеет четкий край, разрешение лучше 1 мкм. Первоначальный слой—-электропроводящий, а полученные негативные структуры — диэлектрики. При экспонировании наблюдают потерю слоем окраски, что делает возможным визуальный контроль. Хлоридные комплексы проявляют чувствительность примерно в 5 раз большую, чем бромидные. Чувствительность может быть повышена уменьшением содержания галогена в слое. В этом случае на слой я-донора перед экспонированием наносят комплекс.[1, С.264]

Хираока [51] весьма подробно исследовал влияние коротковолнового (254 нм), v и электронного излучения на ПММА, поли-грег-бутилметакрилат, ПМАК и ее ангидрид ПМАА. Для ПММА он предложил следующий механизм деструкции:[1, С.232]

Новые методы получения покрытий и з адсорбированных на подложке мономеров под действием электронного излучения или тлеющего разряда позволяют получать тонкие покрытия без применения растворителей, обладающие хорошими дн-электрич. свойствами, высокой адгезией к подложке и химстойкостью. Покрытия можно получать на металлич. и неметаллич. подложках; на последние иногда предварительно наносят тонкий слой алюминия [~ 100 нм (— 1000А)] методом вакуумного напыления.[6, С.9]

В качестве позитивных электронорезистов, помимо фоторезистов, испытывались прежде всего полимеры, действие электронного излучения на которые было изучено ранее. В отличие от негативных резистов в этом случае в первую очередь были выбраны полимеры с высоким значением G(S) и минимальным или нулевым значением G(X). К изученным первым полимерам относятся ПМСТ, ПММА, ПБМА, ПФМА, ПИБ и некоторые другие. Ниже приведены параметры некоторых позитивных электронорезистов [76] :[1, С.255]

Новые методы получения покрытий из а д с о р б п-р о в а п п ы х и а п о д л о ж к е м о н о м е р о в иод действием электронного излучения или тлеющего разряда позволяют получать топкие покрытия без применения растворителей, обладающие хорошими ди-электрич. свойствами, высокой адгезией к подложке н хнмстойкостыо. Покрытия можно получать на металлич. и неметаллич. подложках; па последние иногда предварительно наносят тонкий слой алюминия [~ 100 им (— 1000А)] методом вакуумного напыления.[4, С.11]

... отрезано, скачайте архив с полным текстом ! Полный текст статьи здесь



ТЕОРЕТИЧЕСКАЯ МЕХАНИКА СТУДЕНТАМ!!!
Задачи по теоретической механике из сборника курсовых работ под редакцией А.А. Яблонского, Кепе, Диевского. Быстро, качественно, все виды оплат, СМС-оплата.
А также: Готовые решения задач по теормеху из методичек Тарга С.М. 1988 и 1989 г. и задачника Мещерского. Решение любых задач по термеху на заказ.
Если Вам нужны решения задач по Физике из методички Чертова А.Г. для заочников, а также решебнки: Прокофьева, Чертова, Воробьёва и Волькинштейна. Решение любых задач по физике и гидравлике на сайте fiziks.ru
Что самое приятное на любом из этих сайтов Вы можете заказать решение задач по другим предметам: химия, высшая математика, строймех, сопромат, электротехника, материаловедение, ТКМ и другие.

СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ

1. Беднарж Б.N. Светочувствительные полимерные материалы, 1985, 297 с.
2. Рабек Я.N. Экспериментальные методы в химии полимеров Ч.2, 1983, 480 с.
3. Воробьёва Г.Я. Химическая стойкость полимерных материалов, 1981, 296 с.
4. Кабанов В.А. Энциклопедия полимеров Том 2, 1974, 516 с.
5. Гальперн Г.Д. Химические науки том 3, 1959, 598 с.
6. Каргин В.А. Энциклопедия полимеров Том 2, 1974, 514 с.

На главную