На главную

Статья по теме: Позитивное изображение

Предметная область: полимеры, синтетические волокна, каучук, резина

Скачать полный текст

Как показано в пат. США 4296193, такое позитивное изображение дает среди большинства гидрофильных полимеров только сополимер акрнламнда с диацетонакриламидом. Соотношение звеньев в полимере от 8:2 до 5:5, степень полимеризации от 300 до 1500; при большем содержании звеньев акрил-амида и степени полимеризации менее 300 труднее идет отверждение в щелочах, если же степень полимеризации приближается к 1500, то композиция хуже растворяется в воде. При степени полимеризации более 1500 полимер очень вязок и с ним трудно работать, в частности, при проявлении фотолизованной пластины. В разработке используются хлорцинкаты или фторбораты замещенного фенилдиазония, содержащего в ядре алкокси-, 4-арилмеркапто- или 4-арил-амидные группы, атомы хлора; соль диазония вводят в количестве от 5 до 20 % от массы полимера, используют также стабилизирующие добавки. Композицию наносят на подложку, например, на пленку ПЭТФ нз водного раствора, и сушат при температуре не выше 100 °С; толщина светочувствительного слоя до 10 мкм. После экспонирования проявляют парами аммиака или водной щелочью с рН 12,6—12,95. При проявлении неэкспонированные участки твердеют и окрашиваются, например, в голубовато-фиолетовый цвет с га-(С2Н5)-• (HOC2H4)NCeH4Nj -ZnCls, в проявитель можно добавить активные азокомпо-неиты (2,3-дигндроксинафталин, флороглюцнн, феннлметилпиразолон и др.), которые в результате азосочетания придают интенсивную окраску слою. Проявленный слой может прокрашиваться и прямыми красителями. Получают окрашенный хорошо разрешенный рельеф, пригодный для использования в качестве шаблона при изготовлении форм цветной печати.[1, С.121]

Позитивное изображение шаблона может быть получено в р зультате фрагментации основной цепи пленкообразующего пол мера в местах действия света и удаления низкомолекулярнь фракций с экспонированных участков, например, с помощью ра творителя. Дельзене и Ларидон синтезировали полимеры, соде жащие фрагменты эфира оксима в основной цепи [пат. СШ 3558311]:[1, С.98]

Пленки нитрата целлюлозы при экспонировании светом с длиной волны 193 нм или тяжелыми ионами Ar+, Xef дают позитивное изображение; они распадаются до НаО, N2, СО и других газообразных продуктов. Легкие ионы, пучки электронов или луч лазера позволяет получить негативную маску для последующего ионного травления подложки. Резист рекомендован для применения в промышленности [41].[1, С.190]

Кратковременное экспонирование композиции, достаточное для превращена хинондиазида в инденкарбоновую кислоту, дает после щелочного проявлена нормальное позитивное изображение. После десятикратной экспозиции чере; тот же контактный шаблон н последующего кратковременного облучения всег< слоя первоначально засвеченные участки уже не способны растворяться в ще лочи в отличие от остального слоя, что при щелочном проявлении дает нега тивное изображение оригинала. Это происходит потому, что нитрон при дли тельном фотолизе сшивает компоненты слоя, что приводит к эффекту обра щения. Разработка рекомендована для создания очень контрастных рельефо; в микроэлектронике. Подложкой служит слой висмута толщиной примерш 150 мкм с оптической плотностью 4, напыленной в вакууме на пленку поли этилентерефталата толщиной 0,1 мм. Травитель—12 %-ный раствор РеСЦ, со держащий 1 % лимонной кислоты. В современной аппаратуре проявление, про мывка, травление занимают 28 с.[1, С.90]

В литературе в качестве проявляемых без применения растворителей резистов, названных в настоящей главе сухими, были впервые описаны полиолефинсульфоны, которые при экспонировании разрушаются до летучих компонентов и дают позитивное изображение схемы на подложке [32—34]. В качестве сухих рентгеноре-зистов описаны также полиметакрилонитрил и близкие по строению полимеры [35], смеси на основе поли-2,3-дихлор-1-пропил-акрилата и N-винилкарбазола [36].[1, С.188]

Чаще всего арилазиды используются в негативных светочувствительных композициях. Однако существуют разработки, в которых предлагается использовать арилазиды, содержащие гидро-ксильные, карбоксильные или сульфогруппы, в композициях, образующих позитивное изображение [пат. Великобритании 1520466, заявка Японии 49—116907]. При этом позитивный материал включает полиамид типа капрона, растворяющийся в водном растворе Щелочи. Например, гомо- или сополимеры капролактама или гек-саметилендиаминовой соли адипиновой или себациновой кислоты с ММ 10000—50000 [—N(CH2OR)CO—]„или [—N(CH2O)pRCO]n, где R, например, N-метоксиметилполигексаметиленадипамид. Эти полиамиды спирторастворимы, эластичны и образуют механически прочные пленки. Содержание арилазида в слое до 30%. Рекомендуются моно- и диазиды: 4-азидобензоилкарбоновая или сульфо-кислота, диазид III, 4-азидобензальацетофенон-2-сульфокислота, 1-(4-азидо-2-гидроксифенил)-5-(4-азидо-2-сульфофенил)-3-оксо-1,4 -пентадиен. Все эти композиции характеризуются значительно большей растворимостью в щелочи после экспонирования. По мнению авторов [пат. Великобритании 1520466] диазид III не требует введения сенсибилизаторов в полиамидный слой, при использовании Моноазидов композиция сенсибилизируется с помощью 2-бензоил-метилен-3-метил-р-нафтотиазолина или пирена.[1, С.153]

В пат. США 4326020 (см. также пат. США 4104072) описана компози дающая в зависимости от режима экспонирования негативное или позити изображение. На алюминиевую подложку наносят два слоя: нижний, воде творимый, состоит из диазосмолы, ПВС или ПВП, или полиакриламида, наносят из 50 %-ного водно-органнческого раствора; верхний, нераствори в воде, состоит из диазосмолы н эпоксисмолы нли полиуретана, полнэти оксида, кислого поливинилфталата и др. При полном фотолизе н обы1 обработках получают высокопрочное олеофильиое негативное изображение; использовании только от 3 до 15 % света, минимально необходимого для здания негатива, получают позитивное изображение, которое фиксируется полнительно сплошным фотолизом после проявления. Механизм позитив процесса автору пат. США 4326020 не ясен, однако он считает, что при к тивном процессе водно-органический проявитель эмульгирует нижний ги фнльный слой, что обеспечивает элиминирование и верхнего слоя. Для yci проявления существенна водопроницаемость несшитого верхнего слоя и ре ее снижение после фотоструктурировання. Форма может быть легко OCBI промышленностью.[1, С.120]

В пат. США 3219447 тщательно смешивали НС с арнлсульфонатамн HI видуальных солей диазония (производных 4-амино-дифениламина, -дифеш вого эфира, -дифенисульфида, -дифенила, 3-аминокарбазола, 4-аминозамеи ных 1-диазониев ряда бензола) и из раствора в органическом растворит содержащем 1 % дназония и 5 % НС, формировали на алюминиевой или i ковой подложке светочувствительный слой. При фотолизе и щелочном пр ленин (5 % Na3PO4 в воде с добавкой этилцеллозольва) создавали ПОЗНТНЕ рельефное изображение оригинала, пригодное для использования в каче( печатной формы. Авторы пат. ПНР 100571 в аналогичную композицию ввод дополнительно гексаметилентетрамин. Позитивное изображение оригинала б получено на цинке в результате экспонирования и щелочного проявления точувствнтельного слоя из 3 ч. диазосмолы типа В [конденсат 4,4'-дн(ацето] метил)дифенилового эфира и З-метокси-4-диазодифеннламина] и 10 ч. НС [; США 3867147, примеры 54, 55, 61]. Однако слой из смеси НС н неочищен смолы типа А, полученной в фосфорной кислоте, давал негативное изобра ние оригинала при проявлении водой [пат. США 3396019; пат. Великобрита 1280885; пат. ФРГ 1447957]. Очевидно, диазосмолы и соли дназоння, аш гнчно хинондиазидам, препятствуют растворению НС в щелочных раство[ если же диазоний разрушен, то даже структурированная под действием ct[1, С.120]

Различные алкилсульфоны подвергаются фотогомолизу связей С—SO2> но полиолефинсульфоны не имеют поглощения в области спектра далее 215 нм, поэтому они не интересны как резисты для глубокого УФ-света. Однако существует возможность сенсибилизировать их распад веществами, поглощающими более длинноволновый свет. В системе поли-2-метил-1-пентенсульфон + кре-зольная НС вместо аддитивности спектров наблюдается резкое усиление полосы в области 280 нм, первоначально отвечающей НС. Очевидно, имеет место комплексообразоваиие. Пленку НС, содержащую 16,5 % полиолефинсульфона, наносят на подложку из органического растворителя, выдерживают при 100 °С в течение 20 мин, экспонируют светом в области 250—300 нм дозой до 0,2 Дж/см2. Позитивное изображение шаблона получают на подложке, если слой проявляют щелочным проявителем. По-видимому, НС в рассматриваемой системе является сенсибилизатором разложения полиолефинсульфона (масс-спектрометрически идентифицированы 2-метил-1-пентен и 862), а полиолефинсульфон — гидрофобным веществом, затрудняющим растворение НС в щелочи. Механизм переноса энергии от НС к полиолефинсульфону требует выяснения. Если после экспонирования слой выдержать при 130°С[1, С.182]

При этом на верхнем слое / образуется позитивное изображение, а на подложке 5 — негативное. В дальнейшем для улучшения механических свойств слоя позитивное изображение дополнительно засвечивают без использования шаблонов.[1, С.203]

Это вызывает практически полную нерастворимость облученных участков в неполярных растворителях, и полимер ведет себя как негативный резист, чувствительность которого определяется содержанием возникших ионных пар, но не степенью сшивания. Таким способом сведен к минимуму основной недостаток негативных электронрезистов — набухание при проявлении. Чувствительность резиста 5,6-10~б Кл/см2, коэффициент контрастности 3,3. Резист показал отличную стойкость при травлении плазмой С?4. При проявлении полярными растворителями тот же материал дает позитивное изображение.[1, С.253]

... отрезано, скачайте архив с полным текстом ! Полный текст статьи здесь



ТЕОРЕТИЧЕСКАЯ МЕХАНИКА СТУДЕНТАМ!!!
Задачи по теоретической механике из сборника курсовых работ под редакцией А.А. Яблонского, Кепе, Диевского. Быстро, качественно, все виды оплат, СМС-оплата.
А также: Готовые решения задач по теормеху из методичек Тарга С.М. 1988 и 1989 г. и задачника Мещерского. Решение любых задач по термеху на заказ.
Если Вам нужны решения задач по Физике из методички Чертова А.Г. для заочников, а также решебнки: Прокофьева, Чертова, Воробьёва и Волькинштейна. Решение любых задач по физике и гидравлике на сайте fiziks.ru
Что самое приятное на любом из этих сайтов Вы можете заказать решение задач по другим предметам: химия, высшая математика, строймех, сопромат, электротехника, материаловедение, ТКМ и другие.

СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ

1. Беднарж Б.N. Светочувствительные полимерные материалы, 1985, 297 с.

На главную