Ограничения разрешающей способности оптического метода формирования микроизображения определяются длиной К света, характеристиками светового излучения, такими, как когерентность, спектральный состав, а также качеством совокупной оптической системы, природой регистрирующей среды, условиями, при которых создается микроизображение (наличие турбулентной и рассеивающей среды, вибрации, температурная деформация и т. д.).[6, С.25]
Сочетание высокой разрешающей способности, адгезии к подложке, кислотостойкости (практически последние два свойства и определяют резистивность состава) отмечены в фоторезисте на основе эпоксидированного циклополиизопрена и диазида I [а. с. СССР 398916]. Кроме того, этот состав после фотолитографии обладает высокими диэлектрическими свойствами, что позволяет использовать фоторельеф в качестве межслойной изоляции многослойного печатного монтажа. Электрофизические параметры слоя и резистивность фоторезиста в значительной мере обусловлены высокой плотностью пространственной сетки, возникающей на фото-и термозадубленных участках слоя.[6, С.146]
Электронная микроскопия (сканирующая - СЭМ и трансмиссионная - ТЭМ) превосходит оптическую по разрешающей способности и позволяет исследовать как ненаполненные, так и наполненные смеси. Однако при использовании электронной микроскопии могут возникнуть проблемы с контрастированием фаз, что требует или тонирования одной из фаз, или физической обработки. При близкой ненасыщенности эластомеров приходится применять более сложную процедуру травления.[3, С.576]
К рентгеновским установкам предъявляют растущие требования в отношении пропускной способности; разрешающей способности при контроле новых синтетических кордных материалов, имеющих низкие плотности; числа контролируемых параметров. Кроме того, применение рентгеноскопии приводит к улучшению качества сборки покрышек, поскольку постоянный контроль дает возможность наладить обратную связь между ОТК и сборщиком и, таким образом, позволяет повысить его мастерство и организовать обучение новых сборщиков.[4, С.173]
При вычислении коэффициента диффузии в качестве х удобно выбрать значение, соответствующее достижению концентрации примеси С = 0, 1 Со согласно разрешающей способности прибора. Значение Со можно получить экстраполяцией экспериментальной кривой С(х) на значение х = 0. В этом случае коэффициент зер-нограничной диффузии ?>зг = 1 х 10~14 м2/с (t — Зч).[2, С.168]
Определение ММР методом дробного осаждения не позволяет выделить очень узкие фракции, так как растворимость полимера зависит не только от его состава, но и от молекулярной массы. Это вызывает уменьшение разрешающей способности метода. Однако получаемые данные нельзя считать недействительными, потому что выделенные осаждением фракции могут быть затем проанализированы методами, не зависящими от состава, например осмометрическим.[3, С.330]
Изложенное выше довольно отчетливо показывает, что любые изменения подвижности (а как иначе — ?) изменяют релаксационный спектр, приводя либо к его размазыванию, либо к исчезновению одних линий и появлению новых компонент (вопрос о расщеплении переходов, как мы видели, зависит не только от разрешающей способности конкретных методов).[5, С.312]
В современных промышленных устройствах для экспонирования используется свет с длиной волны 360—430 нм; из-за его дифракции предел разрешения составляет около 1 мкм. Так как уменьшение размеров элементов приводит к росту информационной емкости схемы, то усилия исследователей направлены на повышение разрешающей способности литографии. Дифракция довольно существенно снижается с уменьшением длины волны света, поэтому в последние годы разрабатывается экспонирование УФ-светом с длиной волны до 210 нм [коротковолновая УФ-лито-графия (гл. VI)]. Далее используют двух- и трехслойные резист-[6, С.12]
Из-за высоких требований к материалам только немногие из выполненных разработок нашли применение в производстве, однако необходимость совершенствования микроэлектронных приборов и полиграфических систем требует резкого улучшения параметров фоторезистов, качественного изменения их свойств. Например, стремление к повышению разрешающей способности полимерных рельефов обусловило переход от систем, чувствительных к коротковолновому УФ-свету, к композициям, изменяющим свои свойства под действием пучка электронов, т. е. к электронорези-стам. Такое состояние разработок материалов и их развитие требует систематического рассмотрения работ, динамики изменения[6, С.6]
Только разработка и усовершенствование флюороскопических экранов и устройств усиления изображения помогли вывести рентгеновское оборудование из лабораторий и внедрить его в качестве аналитических аппаратов в производстве шин. Методы, основанные на применении рентгеновской пленки, универсальны и дают прекрасное разрешение; можно изменять и интенсивность рентгеновского пучка, и время экспозиции, добиваясь максимальной разрешающей способности в данных условиях.[3, С.174]
ТЕОРЕТИЧЕСКАЯ МЕХАНИКА СТУДЕНТАМ!!! Задачи по теоретической механике из сборника курсовых работ под редакцией А.А. Яблонского, Кепе, Диевского. Быстро, качественно, все виды оплат, СМС-оплата.
А также: Готовые решения задач по теормеху из методичек Тарга С.М. 1988 и 1989 г. и задачника Мещерского. Решение любых задач по термеху на заказ.
Если Вам нужны решения задач по Физике из методички Чертова А.Г. для заочников, а также решебнки: Прокофьева, Чертова, Воробьёва и Волькинштейна. Решение любых задач по физике и гидравлике на сайте fiziks.ru
Что самое приятное на любом из этих сайтов Вы можете заказать решение задач по другим предметам: химия, высшая математика, строймех, сопромат, электротехника, материаловедение, ТКМ и другие.