При ускоряющем напряжении, равном 100 кВ, которое типично для современных электронных микроскопов, длина волны Я «0,04 А. Однако практически разрешающая способность лучших современных электронных микроскопов на два порядка ниже и составляет 1—5 А. Серийно выпускаемые приборы обычно имеют разрешающую способность около б Аи увеличение 2-Ю5—2-10°. Изображение микрообъектов в электронном микроскопе рассматривается с помощью специального экрана, флюоресцирующего под действием электронов, или фотолрафируется. Обычно в электронном микроскопе изучают картину, получающуюся при прохождении электронов через тонкий слой (пленку) вещества.[2, С.52]
Сополимеры глицидилметакрилата с хлоралкилированными стиролами (Mw — 105) показывают чувствительность 10~6 Кл/см2 при ускоряющем напряжении 20 кВ. Технология обработки их такая же, как и у резистов на основе сополимера глицидилметакрилата с 3-хлорстиролом [пат. США 4208211].[1, С.250]
Рис. VII. 2. Траектории 100 электронов в ПЛША на кремнии по осям лиг (см. рис. VII. I), рассчитанные по методу Монте-Карло при ускоряющем напряжении 10 кВ (а) и 20 кВ (6").[1, С.215]
Изучение морфологии надмолекулярной структуры отвервдвн-ных смол проводили на электронном микроскопе УЭМВ-ЮОК методом углеродных реплик; увеличение (7600 крат) - при ускоряющем напряжении 50 киловольт.[7, С.29]
Теоретич. предельное разрешение электронных микроскопов составляет примерно 0,2 нм (2 А). Основные ограничения в эту величину вносят дифракция, обусловленная конечной длиной дебройлевской волны электронов [при ускоряющем напряжении 100 кв эта величина равна 0,004 нм (0,04 А)], и сферич. аберрация электромагнитных линз. Разрешение лучших серийных микроскопов практически достигло теоретич. предела, что в принципе позволяет детально изучать тонкую структуру полимерных объектов. Однако разрешение, к-рое м. б. достигнуто при исследовании реальных объектов, отличается от разрешения самого прибора из-за несовершенства препаративных методов и радиационных повреждений и составляет 1,5—2,0 нм (15—20 А). Разрешение при использовании растровых микроскопов гораздо меньше: 3—5 нм (30—50 А).[5, С.475]
Теоретич. предельное разрешение электронных микроскопов составляет примерно 0,2 нм (2 А). Основные ограничения в эту величину вносят дифракция, обусловленная конечной длиной дебройлевской волны электронов [при ускоряющем напряжении 100 кв эта величина равна 0,004 ил» (0,04 А)], и сферич. аберрация электромагнитных линз. Разрешение лучших серийных микроскопов практически достигло теоретич. предела, что в принципе позволяет детально изучать тонкую структуру полимерных объектов. Однако разрешение, к-рое м. б. достигнуто при исследовании реальных объектов, отличается от разрешения самого прибора из-за несовершенства препаративных методов и радиационных повреждений и составляет 1,5—2,0 нм (15—20 А). Разрешение при использовании растровых микроскопов гораздо меньше: 3—5 нм (30—50 А).[6, С.474]
В данной работе нами был использован метод дифракции электронов для исследования структуры расплавов следующих полимеров: полиэтилена (ПЭ) высокой плотности, гуттаперчи, политрифторхлорэтилена (ПТФХЭ), полиэтиленсебацината (ПЭС) и полидиметилсилоксана (ПДМС). Пленки полимеров приготовляли из растворов на медных электролитических сетках без какой-либо подложки. Электронограммы от исследуемых полимеров получали на горизонтальном электронографе ЭГ при ускоряющем напряжении около 60 кв. К электронографу было присоединено секторное устройство, выравнивающее интенсивность по дифракционному полю.[4, С.157]
В качестве объекта исследования использовали ПВС с молекулярным весом 85000. Капли водного раствора ПВС концентрации 0,01% наносили на парлодионовые подложки, укрепленные на сетках. Затем препараты оттеняли сплавом Pt—Pd под, углами 10—20°. В ряде случаев растворы ПВС с концентрацией 0,01% готовились разбавлением более концентрированных растворов, которые выдерживались при температурах от 10 до 80° С на протяжении от 1 часа до нескольких суток. Изменение рН растворов ПВС производили путем добавления капель 0,1 н. НС1. Препараты изучались под электронным микроскопом Хита-чи-11 при ускоряющем напряжении 75 кв.[3, С.119]
показывают чувствительность ЫО-7—5-10~7 Кл/см2 при ускоряющем напряжении 5—20 кВ [пат. США 4315067]. С использованием этого резиста можно получить хромовую маску с разрешением 1 мкм.[1, С.251]
1,2-Этилендикарбоксильная группа, вводимая в боковую цепь, полимера в количестве 1—20 % от массы мономерного звена, повышает чувствительность полимера к электронному излучению [пат. США 4273858, 4349647; заявка Японии 54—24657]. Модифицированный таким образом сополимер бутадиена со стиролом показал чувствительность около 10~7 Кл/см2 и контрастность 1,38 (27 кВ); при ускоряющем напряжении 10 кВ чувствительность составляет 1,5-Ю-10 Кл/см2, разрешение 0,7 мкм; чувствительность к рентгеновскому излучению 0,03 Дж/см2.[1, С.254]
150°С в течение 30 мин чувствительность пленки составила Ю-5 Кл/см2 при ускоряющем напряжении 10 кВ.[1, С.252]
ТЕОРЕТИЧЕСКАЯ МЕХАНИКА СТУДЕНТАМ!!! Задачи по теоретической механике из сборника курсовых работ под редакцией А.А. Яблонского, Кепе, Диевского. Быстро, качественно, все виды оплат, СМС-оплата.
А также: Готовые решения задач по теормеху из методичек Тарга С.М. 1988 и 1989 г. и задачника Мещерского. Решение любых задач по термеху на заказ.
Если Вам нужны решения задач по Физике из методички Чертова А.Г. для заочников, а также решебнки: Прокофьева, Чертова, Воробьёва и Волькинштейна. Решение любых задач по физике и гидравлике на сайте fiziks.ru
Что самое приятное на любом из этих сайтов Вы можете заказать решение задач по другим предметам: химия, высшая математика, строймех, сопромат, электротехника, материаловедение, ТКМ и другие.